Sensofar非接觸式粗糙度測量儀（如S neox系列）采用光譜共焦技術，通過垂直入射光束與被測表面反射信號的相位差實現亞納米級精度測量，避免了傳統觸針式設備對表面的劃傷風險。其操作流程涵蓋環境準備、參數配置、數據采集與結果驗證四大核心環節，以下為標準化操作規范。

　　一、環境與設備預檢

　　操作前需確保環境滿足技術要求：溫度20±2℃、濕度40%-60%，避免強光直射與空氣擾動。啟動設備前需完成三重檢查：

　　1.光學組件：檢查物鏡透鏡組是否存在指紋或灰塵污染，使用無塵布蘸取99.7%分析純酒精沿同一方向擦拭；

　　2.載物臺：確認大理石基座水平度誤差≤0.02mm/m，通過內置電子水平儀校驗；

　　3.軟件系統：啟動Sensomap Premium軟件，檢查光譜儀與相機通信延遲是否＜50ms，預熱15分鐘以消除熱漂移誤差。

　　二、參數配置與校準

　　1.測量模式選擇

　?、?D形貌模式：適用于Ra＞0.01μm的粗糙表面，通過Z軸步進掃描獲取三維形貌數據；

　?、诠庾V干涉模式：針對超光滑表面（Ra＜0.005μm），利用100nm-10μm波長范圍的干涉條紋解析微觀結構。

　　2.校準流程

　　①放置經NPL認證的硅基標準量塊（Ra=0.025μm±2%），啟動自動校準程序；

　?、谲浖詣幼R別量塊表面特征峰，生成相位-高度轉換曲線，當殘差RMS值＜0.001μm時判定校準合格；

　?、塾涗浶氏禂抵帘镜財祿?，支持ISO 25178與ASME B46.1雙標準輸出。

　　三、數據采集與處理

　　1.測量參數設置

　?、偃娱L度：根據表面紋理周期選擇，精加工表面推薦λc=0.8mm；

　?、谠u定長度：按5λc原則設置，確保覆蓋至少5個完整表面周期；

　　③濾波閾值：高斯濾波截止波長λs=2.5λc，抑制長波長波紋干擾。

　　2.測量執行

　?、賹悠饭潭ㄓ跉飧≥d物臺，調整激光焦點至表面10μm范圍內；

　?、趩訏呙璩绦?，S neox以10μm/s速率采集1024×1024像素點云數據；

　?、蹖崟r監測信噪比（SNR），當SNR＜30dB時自動觸發二次聚焦。

　　3.數據分析

　　①軟件自動生成ISO 4287參數（Ra、Rz、Rsm）與3D紋理參數（Sdq、Sdr）；

　　②支持跨尺度分析，可同步輸出微觀形貌（1μm2）與宏觀紋理（10mm2）數據；

　　③提供ANSI Y14.36M兼容的PDF報告模板，支持數據溯源至NIST標準。

　　四、維護與異常處理

　　1.日常維護：每日測量后需清潔物鏡組，使用壓縮空氣清除載物臺殘留顆粒；

　　2.故障排查：若出現“相位解纏錯誤”，需檢查樣品表面反射率是否＞15%，可通過鍍金涂層提升信號強度；

　　3.長期停用：關閉設備前運行自清潔程序，將物鏡溫度設定為25℃以防止冷凝。

　　五、Sensofar非接觸式粗糙度測量儀外觀示意圖

　　Sensofar非接觸式粗糙度測量儀通過光學非接觸特性與智能算法，實現了從納米級到毫米級的多尺度表征。用戶需嚴格遵循操作規范，結合具體應用場景優化參數配置，方可充分發揮設備在半導體晶圓、光學元件等領域的檢測效能。