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技術文章
TECHNICAL ARTICLES在半導體制造、精密光學加工等高級領域，表面形貌的微小起伏可能直接影響器件性能。白光干涉儀憑借其納米級測量精度，成為微觀形貌檢測的“黃金標準”。其核心原理在于利用光的干涉現象，將表面高度變化轉化為可量化的光學信號，實現非接觸、高精度的三維形貌測量。一、干涉原理：光程差與表面高度的精密映射白光干涉儀通過分光棱鏡將光源分為兩束光：一束投射至被測樣品表面，另一束射向參考鏡。兩束反射光在CCD相機感光面疊加形成干涉條紋。當樣品表面存在高度差時，光程差隨之變化——每移動一個條紋間距，光程...
二維材料作為原子級厚度的前沿材料，其不同的量子限域效應為納米器件研發開辟了新路徑。而微納加工技術作為二維材料器件化的關鍵環節，正迎來革命性突破——無掩膜光刻技術以靈活高效的優勢，成為推動二維材料研究進展的重要工具。各種二維材料及結構二維材料研究的核心挑戰與技術流程二維材料（如石墨烯、過渡金屬硫化物等）的電學性能研究需經歷多維度技術攻關：1材料制備與篩選機械剝離法可獲取高純度單晶薄片，化學氣相沉積（CVD）能實現晶圓級薄膜生長；拉曼光譜（如石墨烯G峰1580cm?1、2D峰27...
關注我們這今日，要為大家重磅介紹一對科研領域的“黃金搭檔”：??Sensofar的3D光學輪廓儀??Instec的高精度冷熱臺3D光學輪廓儀探針冷熱臺3D光學輪廓儀，則如同微觀世界的“火眼金睛”，實時凝視著樣品，將樣品在不同溫度波動過程中，發生的納米級材料表面形貌變化清晰呈現,而冷熱臺，作為構建穩定溫度環境的基石，能夠為樣品提供一個從-190℃的極寒到400℃高溫的可控溫度工作臺。圓封裝中的關鍵應用在硅晶片制造的精密流程里，快速熱處理（RTP）占據著舉足輕重的地位。在這一環節...
一、ISO25178標準體系概述ISO25178是一套關于表面紋理三維參數的國際標準，其內容涵蓋了表面形貌的測量方法、參數定義以及相關術語解釋。該標準在工業質量控制、材料研究和制造工程等眾多領域廣泛應用，為全球范圍內的表面質量評估提供了統一、科學的依據。在這一標準體系中，眾多參數協同作用，從不同維度描述表面特征，而Std參數則專注于表面紋理方向的表征。西班牙Sensofar共聚焦白光干涉儀Sneox，作為專業粗糙度測量儀，提供專業粗糙度測量模塊。二、Std參數的定義與內涵St...
LinkamMDS600冷熱臺作為高精度環境控制設備，其核心原理基于熱傳導、氣密環境控制與多物理場耦合技術，可實現-196℃至600℃的寬溫域調控，為材料科學、地質學及生物醫學研究提供關鍵實驗平臺。一、熱傳導與溫度控制系統MDS600冷熱臺采用銀質加熱塊作為核心熱傳導介質，其表面經過高度拋光處理，熱導率達429W/(m·K)，確保熱量均勻傳遞至樣品。加熱模塊內置100Ω鉑電阻傳感器，通過四線制測量技術實現0.01℃的溫度精度，結合PID算法將溫度波動控制在±0....
在半導體芯片制造、MEMS器件加工及光學薄膜研發中，微米級甚至納米級的臺階高度直接決定器件性能。澤攸臺階儀憑借高精度非接觸測量、自動化數據分析與多場景適配，成為微納結構表征的“黃金工具”。其核心技術融合了光學干涉、精密運動控制與智能算法，將臺階高度測量精度推向亞納米級，為微納制造提供從研發到量產的全流程質量保障。一、光學干涉核心：納米級測量的“光影密碼”1.白光干涉技術①采用寬帶LED光源，通過邁克爾遜干涉儀生成等厚干涉條紋，利用垂直掃描干涉（VSI）模式實現大范圍（10μm...
氮摻雜石墨烯（N-dopedgraphene）作為無金屬催化劑及金屬納米顆粒載體，在電催化、光催化和環境凈化領域展現出顯著的應用潛力。其*特的電子結構與表面性質源于氮原子的引入，尤其在氧還原反應（ORR）等電化學過程中，性能提升效**著。目前，三聚氰胺（melamine）因高達66.7%的氮含量成為常用氮源，而熱處理技術是制備該材料的主流方法。此外，石墨相氮化碳（g-C?N?）作為半導體材料，因化學穩定性高，在光催化水分解和有機合成中備受關注。若將其與還原氧化石墨烯（rGO）...
一、技術核心優勢亞埃級分辨率：突破光學極限，直接解析原子排列與晶格點陣結構。多維度分析能力：融合成像、電子衍射及能譜分析（EDS/EELS），實現微觀結構與成分的協同表征。體相觀測特性：穿透材料表層，揭示內部三維微觀組織特征。二、金屬材料研究中的關鍵應用場景（1）微觀組織結構表征晶粒與晶界分析：定量測定晶粒尺寸分布、取向差及形貌特征，解析晶界類型（孿晶界、小角度晶界等）及偏析行為。位錯體系研究：識別刃型、螺型位錯及混合組態，分析位錯密度、滑移路徑與纏結機制，為塑性變形理論提供...