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產品簡介
徠卡DM8000M自動型半導體檢查顯微鏡概述徠卡 DM8000M 是專為 8 英寸(200?mm)及以下晶圓設計的全自動正置金相顯微鏡。
徠卡 DM8000M 是專為 8 英寸(200?mm)及以下晶圓設計的全自動正置金相顯微鏡。儀器整體采用模塊化結構,機身由高強度鋁合金與鋼制框架組合而成,保證了在長期高負荷使用下的剛性與穩定性。光學系統采用徠卡自研的多層鍍膜物鏡,提供 5×、10×、20×、50×、100× 五檔放大倍率,兼容明場、暗場、斜照明以及透射光等多種觀察模式,能夠滿足從宏觀缺陷定位到微觀結構分析的全流程需求。
在照明方面,DM8000M 采用最新的 LED 光源技術,光源集成在顯微鏡機身內部,熱輻射極低,且具備超長壽命和低能耗的優勢。用戶可通過一鍵切換實現不同波段(可選 UV)和照明方式的切換,提升了對不同材料和缺陷類型的可視化效果。
電動載物臺是本機的核心部件,行程 202?mm?×?202?mm,步進精度達到 0.01?µm,支持全自動掃描、拼圖和圖像采集。配套的 600 萬像素 CMOS 攝像頭與 Leica LAS 軟件實現實時圖像顯示、自動缺陷識別、尺寸測量以及批量數據導出,極大提升了生產線的檢測效率。
主要技術參數
| 參數 | 規格 |
|---|---|
| 最大樣品尺寸 | 8?inch(200?mm)晶圓 |
| 物鏡倍率 | 5×、10×、20×、50×、100× |
| 觀察模式 | 明場、暗場、斜照、透射 |
| 載物臺行程 | 202?mm?×?202?mm |
| 步進精度 | 0.01?µm |
| 攝像頭分辨率 | 600 萬像素 |
| 照明光源 | 高效 LED(可選 UV) |
| 軟件平臺 | Leica LAS(圖像采集、分析、報告) |
適用領域
半導體晶圓缺陷檢測與過程控制
*封裝結構檢查
MEMS 結構表征
光刻掩模質量評估
使用說明要點
開機準備:檢查 LED 光源連接、載物臺校準以及攝像頭狀態。系統自檢通過后進入主界面。
樣品裝載:使用專用晶圓夾具,將晶圓平穩放置在載物臺中心,確保無塵。
模式選擇:在軟件中選擇所需觀察模式(如暗場用于金屬顆粒檢測),并調節光強。
自動掃描:設定掃描區域與步進距離,啟動自動掃描,系統將自動完成圖像拼接并生成缺陷報告。
數據導出:檢測完成后,可將圖像、測量數據及報告導出為 PDF、CSV 或 LAS 專有格式,便于后續分析與歸檔。
DM8000M 通過硬件與軟件的深度融合,為半導體制造企業提供了從宏觀到微觀的全鏈路檢測能力,幫助實現更高的良率與更穩定的工藝控制。