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奧林巴斯超景深顯微鏡結構用材與部件解析

產品簡介

奧林巴斯超景深顯微鏡結構用材與部件解析
奧林巴斯 DSX1000 超景深數碼顯微鏡的機身結構圍繞 “穩定性、防護性與操作便捷性" 設計,不同區域用材均對應具體功能需求。

產品型號:DSX1000
更新時間:2025-10-23
廠商性質:代理商
訪問量:32
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奧林巴斯超景深顯微鏡結構用材與部件解析


一、整體結構與機身用材邏輯
奧林巴斯 DSX1000 超景深數碼顯微鏡的機身結構圍繞 “穩定性、防護性與操作便捷性" 設計,不同區域用材均對應具體功能需求。機身主體框架采用高強度鋁合金材料,該材料密度約 2.7g/cm3,在保證 35kg 整機重量控制的同時,能提供足夠剛性,減少外界振動對光學系統的影響 —— 框架關鍵部位厚度達 8mm,經過時效處理后,形變量可控制在 0.1mm 以內,確保物鏡與圖像傳感器的相對位置穩定,避免因框架變形導致成像偏移。
機身外殼采用 ABS+PC 合金工程塑料,表面經過啞光處理,不僅具備良好的抗沖擊性(可承受 1m 高度跌落的輕微碰撞),還能減少環境光線反射對觀察的干擾。外殼拼接處采用密封膠條設計,防護等級達 IP42,可阻擋灰塵與飛濺液體進入設備內部,適配車間等多塵環境的使用需求。設備操作臺面板選用鋼化玻璃材質,厚度 5mm,透光率達 92%,既便于觀察下方樣品臺狀態,又能承受 5kg 以內的重物按壓,日常操作中可直接放置樣品盒、操作手冊等物品。
二、核心部件用材與性能支撐
(一)光學系統用材
DSX1000 的物鏡作為光學核心,鏡片采用高折射率低色散玻璃(如 LaK 系列光學玻璃),該玻璃能有效減少色差與球差,配合多層鍍膜技術(每層膜厚控制在 100-200nm),可提升光線透過率(達 98% 以上),確保不同倍率下的成像清晰度。物鏡外殼采用不銹鋼材質(SUS304),表面經過精密加工,同軸度誤差控制在 0.01mm 以內,能精準固定鏡片位置,避免鏡片偏移影響光路對齊 ——100X 物鏡外殼厚度達 5mm,內置防抖動結構,可減少操作時手部觸碰帶來的微小晃動。
光學鏡筒采用航空級鋁合金材料,內壁經過發黑處理(粗糙度 Ra≤0.2μm),能吸收雜散光,避免光線在鏡筒內多次反射導致的成像干擾。鏡筒與物鏡接口處采用黃銅材質的精密螺紋,黃銅具有良好的耐磨性,經過 5000 次以上插拔測試后,仍能保持穩定的配合精度,確保物鏡安裝后光路同軸。





奧林巴斯超景深顯微鏡結構用材與部件解析

二、核心參數與性能關聯
(一)光學系統參數
DSX1000 的光學系統采用奧林巴斯 UIS2 光學設計,物鏡倍率覆蓋 10X、20X、50X、100X、200X(可選),數值孔徑(NA)隨倍率提升而增加,100X 物鏡 NA 值為 0.9,200X 物鏡 NA 值為 1.25,可實現不同放大倍數下的成像清晰度調節。分辨率方面,在 100X 倍率下,水平分辨率達 0.35μm,垂直分辨率達 0.1μm,能捕捉微小結構細節,如電子元件的引腳間距、材料表面的細微劃痕。
景深表現是其核心優勢,通過光學設計與圖像合成技術,在 10X 倍率下景深可達 10mm,50X 倍率下景深為 1.2mm,100X 倍率下景深為 0.3mm,相比傳統光學顯微鏡,可在單次觀察中呈現樣本的立體結構,無需頻繁調整焦距。例如觀察機械零件的臺階結構時,能同時清晰呈現臺階頂部、側面與底部,避免多次對焦導致的觀察效率下降。
(二)成像與采集參數
設備配備 200 萬像素 CMOS 圖像傳感器,支持最大分辨率 1600×1200,幀率達 30fps,可實現實時動態觀察,適合捕捉樣本的動態變化,如液體中顆粒的運動軌跡。圖像采集支持明場、暗場、微分干涉(DIC)等多種觀察方式:明場適合觀察樣本的整體形貌,暗場可突出樣本表面的凸起與凹陷,DIC 則能增強透明樣本(如玻璃、薄膜)的細節對比度。
光源系統采用 LED 環形光源,亮度可通過軟件調節(0-100%),色溫穩定在 5500K,避免因光源色溫波動導致的成像顏色偏差。同時支持多角度光源切換,可選擇 45°、90° 等不同照射角度,適配不同反射率的樣本,如金屬表面(高反射)可采用 45° 斜射光源減少反光,非金屬表面(低反射)可采用 90° 直射光源提升亮度。
三、參數與應用場景的適配
在電子元件檢測場景中,檢測芯片焊點時,選擇 50X 物鏡、DIC 觀察方式,搭配 80% 亮度的 LED 光源,可清晰呈現焊點的焊錫形態,判斷是否存在虛焊、橋連等缺陷;觀察芯片引腳間距(如 0.1mm 間距)時,選用 100X 物鏡,水平分辨率 0.35μm 可準確區分相鄰引腳,避免誤判。
在材料研究場景中,分析金屬材料的斷口結構時,采用 10X 物鏡、暗場觀察,10mm 的景深能完整呈現斷口的凹凸紋理,輔助判斷斷裂機制;觀察聚合物的結晶形態時,選用 20X 物鏡、明場觀察,可清晰呈現晶體的大小與分布,軟件測量功能可統計晶體粒徑范圍。
四、參數調整的操作邏輯
實際操作中,參數調整需遵循 “倍率 - 觀察方式 - 光源" 的順序:首先根據樣本大小與細節需求選擇物鏡倍率(小樣本或細微結構選高倍,大樣本或整體形貌選低倍);其次根據樣本特性選擇觀察方式(透明樣本選 DIC,高反射樣本選暗場);最后調節光源亮度與角度,確保成像對比度適中。例如觀察玻璃基板上的薄膜劃痕時,先選 50X 物鏡,再切換 DIC 觀察方式,最后將光源亮度調至 60%,角度設為 60°,即可清晰呈現劃痕的長度與深度。
通過合理匹配參數與應用場景,DSX1000 可在不同檢測需求中發揮作用,兼顧觀察效率與成像質量。奧林巴斯超景深顯微鏡結構用材與部件解析



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