奧林巴斯 GX53M光學系統設計與成像表現

產品簡介

奧林巴斯 GX53M光學系統設計與成像表現
奧林巴斯倒置金相顯微鏡GX53M的核心競爭力，很大程度源于其光學系統的精細化設計。該機型搭載了品牌經典的UIS2無限遠校正光學系統，這一設計通過優化透鏡組排列，有效減少光線在傳輸過程中的損耗與像差，為高對比度成像奠定基礎。

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更新時間：2025-10-23

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奧林巴斯 GX53M光學系統設計與成像表現

奧林巴斯倒置金相顯微鏡GX53M的核心競爭力，很大程度源于其光學系統的精細化設計。該機型搭載了品牌經典的UIS2無限遠校正光學系統，這一設計通過優化透鏡組排列，有效減少光線在傳輸過程中的損耗與像差，為高對比度成像奠定基礎。

具體來看，GX53M標配4孔物鏡轉盤，可安裝MPLN系列平場消色差物鏡，覆蓋50X-1000X常用放大倍數。其中，50X物鏡數值孔徑（NA）為0.15，工作距離3.5mm，適合初步觀察材料表面形貌；100X油鏡NA達0.95，工作距離0.17mm，配合浸油使用時，能捕捉更細微的組織細節。目鏡方面，采用10X寬視野目鏡（FN22），視場數22mm，觀察時視野更開闊，便于定位樣本區域。

光源系統是另一大亮點。GX53M配備12V/100W鹵素燈，配合可變光闌與聚光鏡調節，可精準控制照明強度與均勻度。用戶反饋顯示，針對不同反射率的樣本（如拋光金屬、非金屬夾雜物），通過調整柯勒照明，能有效避免光斑不均或過曝問題。此外，可選配LED冷光源模塊（需定制），壽命長達2萬小時，適合長時間連續觀察場景。

參數表中，光學性能的關鍵指標還包括：視場直徑（φ22mm）、齊焦距離（∞）、蓋玻片厚度修正范圍（0-2mm）。這些設計讓GX53M在金屬材料晶粒度分析、鑄件缺陷檢測等場景中，能提供穩定清晰的圖像輸出。對于實驗室或工業檢測場景而言，光學系統的可靠性直接影響數據準確性，而GX53M通過成熟的UIS2技術與模塊化物鏡配置，滿足了多數常規金相觀察需求。