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  • 20257-15
    澤攸探針臺微納世界的“精密手術刀”與“科學探照燈”

    在半導體芯片尺寸逼近物理極限、納米材料應用突破傳統邊界的今天,如何實現微米級甚至納米級器件的精準測試與操控,成為制約科技創新的關鍵瓶頸。澤攸憑借自主研發的探針臺系列產品,以“三維定位精度達納米級、環境適應性跨越-196℃至400℃”的核心技術,為微納電子、光電材料、量子計算等領域提供了從基礎研究到產業化的全鏈條解決方案。一、半導體行業的“質量守門人”在晶圓制造環節,澤攸手動探針臺系統通過特制熱沉設計將溫度波動控制在±0.1℃以內,配合高精度微調樣品座,可實現0....

  • 20257-15
    ISO25178 參數解析:Ssw(主要空間波長)的技術內涵與應用價值

    Ssw的定義與物理意義Ssw指的是與傅立葉變換最大值相對應的波長。從表面紋理的構成機制來看,任何物體表面都可視為不同尺度波的疊加組合,而傅立葉變換能夠定量分析各個波長成分對整體紋理的貢獻程度。在此過程中,Ssw參數所表征的正是對表面紋理形成貢獻最大的波長分量。需要特別指出的是,Ssw的應用存在一定的適用范圍。當面對缺乏明顯周期性圖案的表面時,該參數的表征意義會相應減弱。這是因為在這種情況下,不存在占主導地位的波長成分,傅立葉變換的最大值所對應的波長無法準確反映表面的典型特征。...

  • 20257-11
    白光干涉儀以光波為尺,丈量納米級微觀世界

    在半導體制造、精密光學加工等高級領域,表面形貌的微小起伏可能直接影響器件性能。白光干涉儀憑借其納米級測量精度,成為微觀形貌檢測的“黃金標準”。其核心原理在于利用光的干涉現象,將表面高度變化轉化為可量化的光學信號,實現非接觸、高精度的三維形貌測量。一、干涉原理:光程差與表面高度的精密映射白光干涉儀通過分光棱鏡將光源分為兩束光:一束投射至被測樣品表面,另一束射向參考鏡。兩束反射光在CCD相機感光面疊加形成干涉條紋。當樣品表面存在高度差時,光程差隨之變化——每移動一個條紋間距,光程...

  • 20257-10
    新型無掩膜光刻技術在二維材料器件制備中的創新應用

    二維材料作為原子級厚度的前沿材料,其不同的量子限域效應為納米器件研發開辟了新路徑。而微納加工技術作為二維材料器件化的關鍵環節,正迎來革命性突破——無掩膜光刻技術以靈活高效的優勢,成為推動二維材料研究進展的重要工具。各種二維材料及結構二維材料研究的核心挑戰與技術流程二維材料(如石墨烯、過渡金屬硫化物等)的電學性能研究需經歷多維度技術攻關:1材料制備與篩選機械剝離法可獲取高純度單晶薄片,化學氣相沉積(CVD)能實現晶圓級薄膜生長;拉曼光譜(如石墨烯G峰1580cm?1、2D峰27...

  • 20257-8
    技術參數|科研利器組合:解鎖材料微觀世界溫度密碼

    關注我們這今日,要為大家重磅介紹一對科研領域的“黃金搭檔”:??Sensofar的3D光學輪廓儀??Instec的高精度冷熱臺3D光學輪廓儀探針冷熱臺3D光學輪廓儀,則如同微觀世界的“火眼金睛”,實時凝視著樣品,將樣品在不同溫度波動過程中,發生的納米級材料表面形貌變化清晰呈現,而冷熱臺,作為構建穩定溫度環境的基石,能夠為樣品提供一個從-190℃的極寒到400℃高溫的可控溫度工作臺。圓封裝中的關鍵應用在硅晶片制造的精密流程里,快速熱處理(RTP)占據著舉足輕重的地位。在這一環節...

  • 20257-2
    西班牙Sensofar | 探秘 ISO25178 之 Std 參數:加工紋理方向的關鍵指引

    一、ISO25178標準體系概述ISO25178是一套關于表面紋理三維參數的國際標準,其內容涵蓋了表面形貌的測量方法、參數定義以及相關術語解釋。該標準在工業質量控制、材料研究和制造工程等眾多領域廣泛應用,為全球范圍內的表面質量評估提供了統一、科學的依據。在這一標準體系中,眾多參數協同作用,從不同維度描述表面特征,而Std參數則專注于表面紋理方向的表征。西班牙Sensofar共聚焦白光干涉儀Sneox,作為專業粗糙度測量儀,提供專業粗糙度測量模塊。二、Std參數的定義與內涵St...

  • 20256-27
    Linkam MDS600冷熱臺原理:精密控溫與多環境模擬技術解析

    LinkamMDS600冷熱臺作為高精度環境控制設備,其核心原理基于熱傳導、氣密環境控制與多物理場耦合技術,可實現-196℃至600℃的寬溫域調控,為材料科學、地質學及生物醫學研究提供關鍵實驗平臺。一、熱傳導與溫度控制系統MDS600冷熱臺采用銀質加熱塊作為核心熱傳導介質,其表面經過高度拋光處理,熱導率達429W/(m·K),確保熱量均勻傳遞至樣品。加熱模塊內置100Ω鉑電阻傳感器,通過四線制測量技術實現0.01℃的溫度精度,結合PID算法將溫度波動控制在±0....

  • 20256-25
    澤攸臺階儀從納米臺階到微納制造的“精密標尺”

    在半導體芯片制造、MEMS器件加工及光學薄膜研發中,微米級甚至納米級的臺階高度直接決定器件性能。澤攸臺階儀憑借高精度非接觸測量、自動化數據分析與多場景適配,成為微納結構表征的“黃金工具”。其核心技術融合了光學干涉、精密運動控制與智能算法,將臺階高度測量精度推向亞納米級,為微納制造提供從研發到量產的全流程質量保障。一、光學干涉核心:納米級測量的“光影密碼”1.白光干涉技術①采用寬帶LED光源,通過邁克爾遜干涉儀生成等厚干涉條紋,利用垂直掃描干涉(VSI)模式實現大范圍(10μm...

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